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2019/8/14 6:16:58发布3次查看发布人:
正胶pr1-2000a1技术资料
正胶pr1-2000a1是为曝光波长为365 或者436纳米,可用于晶圆步进器、扫描投影对准器、近程打印机和接触式打印机等工具。pr1-2000a1可以满足对附着能力较高的要求,在使用pr1-2000a1时一般不需要增粘剂,如hmds。
相对于其他的光刻胶,pr1-2000a1有如下的一些额外的优势:
peb,光刻胶日本,不需要后烘的步骤;
较高的分别率;
快速显影;
较强的线宽控制;
蚀刻后去胶效果好;
在室温下有效期长达2年。
pcb稳定
pcb被誉为电子产品之母,广泛应用于各个电子终端。2016年,全球pcb市场规模达542.1亿美元。国外研究机构预测,pcb市场年复合增长率可达3%,到2020年,pcb全球市场规模将达到610亿美元;中国在2020年pcb产值有望达到311亿美元,光刻胶 厚胶,在2015-2020年期间,光刻胶无极1,年复合增长率略高于国际市场,光刻胶,为3.5%。得益于pcb行业发展刚需,我国pcb光刻胶需求空间巨大。
光刻的工序
下面我们来详细介绍一下光刻的工序:
一、清洗硅片(wafer clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷,提高光刻胶黏附性
基本步骤:化学清洗——漂洗——烘干。
自1970年美国rca实验室提出的浸泡式rca化学清洗工艺得到了广泛应用,1978年rca实验室又推出兆声清洗工艺,近几年来以rca清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来,例如:美国fsi公司推出离心喷淋式化学清洗技术、美国原cfm公司推出的full-flow systems封闭式溢流型清洗技术、美国verteq公司推出的介于浸泡与封闭式之间的化学清洗技术(例goldfinger mach2清洗系统)、美国ssec公司的双面檫洗技术(例m3304 dss清洗系统)、 日本提出无药液的电介离子水清洗技术(用电介超纯离子水清洗)使抛光片表面洁净技术达到了新的水平、以hf / o3为基础的硅片化学清洗技术。
光刻胶-赛米莱德-光刻胶 厚胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。“光刻胶”就选 北京赛米莱德贸易有限公司(www.semild.com),公司位于:北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208,多年来,赛米莱德坚持为客户提供好的服务,联系人:况经理。欢迎广大新老客户来电,来函,亲临指导,洽谈业务。赛米莱德期待成为您的长期合作伙伴!
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